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2025.03.08 - [TechStock&Review/SemiConduct] - 무어의 법칙을 뒷받침하는 작은 별의 폭발 (25.3.8) 무어의 법칙을 뒷받침하는 작은 별의 폭발 (25.3.8)무어의 법칙을 뒷받침하는 작은 별의 폭발초신성을 설명하는 동일한 공식으로 EUV 리소그래피 장비가 가능해 졌습니다 천문학자 칼 세이건의 말처럼 우리 모두는 별의 재료로 만들어졌습니다.spedtrder.tistory.com Working Cite[1] https://www.nature.com/articles/s41467-023-40759-z[2] https://en.wikipedia.org/wiki/Free-electron_laser[3] https://en.wikipedia.org/wiki/Un..

들어가며...칩 프린터 (리소그래피 장비) 를 통해 AI 혁명을 실현하고 있으며 이는 지금까지 만들어진 기계 중 가장 복잡한 기계입니다. The List - ASML 스캐너 목록지난 35년 동안 설치된 모든 ASML 스캐너 모델 목록을 소개합니다. 완전한 목록은 아닙니다. 몇 가지 빠진 것도 있을 수 있지만, 제가 직접 사용해 본 도구(대부분 그렇습니다)나 친구들이 사용해 보았다고 알려준 모델을 바탕으로 정리한 것입니다. 작은 글씨로 표시되어 있지만, 약 50개의 다양한 도구 모델로 구성된 방대한 목록입니다. 여기서는 이러한 역사를 자세히 살펴보고, 오늘날 전 세계 최첨단 칩 공장에 설치되는 최신 EUV 도구에 대해 알아보겠습니다. Scanner Platforms수년에 걸쳐 개발된 다양한 세대의 리소그래..

High-NA Hard Sell: EUV Multipatterning Practices Revealed, Depth of Focus Not MentionedHigh-NA EUV 리소그래피 시스템에서는 Numerical Aperture(NA)가 0.33에서 0.55로 확장됩니다. 이러한 변화는 0.33 NA EUV 시스템의 다중 패터닝을 피할 수 있게 해 준다는 점에서 마케팅되었습니다. 이에 대한 구체적인 사례는 아주 최근에야 제시되었습니다 [1]. 실제로 DUV 이중 패터닝이 충분했을 수있는 경우 EUV에 대해 이중 패터닝이 구현되었음을 알 수 있습니다.더 높은 NA가 제공하는것 - What a Higher NA offersNA가 증가하면 더 많은 회절 차수, 즉 더 넓은 범위의 공간 주파수를 이미징에 ..

칼 자이스(Carl Zeiss)의 역사와 EUV 리소그래피 광학Executive Summary본 보고서는 19세기 독일의 작은 광학 작업장에서 출발하여 오늘날 최첨단 반도체 산업의 핵심 기술을 유일하게 공급하는 글로벌 리더로 성장한 칼 자이스(Carl Zeiss)의 175년이 넘는 역사를 심층적으로 분석한다. 자이스의 여정은 과학적 엄밀함과 정밀 공학에 뿌리를 두고 있으며, 이는 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV) 리소그래피 광학계라는 현대 기술의 정점을 구현하는 데 결정적인 역할을 했다. 보고서는 물리학자 에른스트 아베와의 협력을 통해 과학 기반 제조의 기틀을 마련한 창업 초기부터, 두 차례의 세계대전과 독일 분단이라는 역사적 격동을 이겨낸 과정, 그리고 네덜란드의 ASML과의 전략..

핵심 요약 인포그래픽 https://t.co/JIYM9svQNk ‎Gemini - 중국 EUV 장비 개발 조사Gemini Advanced로 생성됨gemini.google.com 중국의 자체 EUV 장비 개발 및 운영 가능성에 대한 심층 분석 보고서요약 중국은 첨단 반도체 제조의 핵심인 극자외선(EUV) 리소그래피 장비의 자체 개발 및 운영을 국가적 최우선 과제로 삼고 있습니다. 이는 미국의 제재와 글로벌 공급망 의존도를 줄이기 위한 전략적 움직임으로 해석됩니다. 현재 중국의 반도체 제조 역량은 SMIC(중신궈지)의 7나노미터(nm) 칩 생산 성공에서 볼 수 있듯이 상당한 발전을 이루었으나, 이는 EUV 장비 없이 심자외선(DUV) 기반의 다중 패터닝 기술을 통해 달성된 것입니다. 이러한 DUV ..